電化學拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時浸入電化學拋光槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

 電化學拋光機理－黏性薄膜理論如下。拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結果。從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大、擴散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達到高度光潔和光澤的外觀。

 由(you)此可見(jian)，溶液(ye)濃度(du)和(he)黏度(du)是個重要因素，特別(bie)是溶液(ye)的黏度(du)，往往表(biao)現(xian)在(zai)(zai)新(xin)配(pei)的拋(pao)(pao)光液(ye)雖(sui)然組(zu)分濃度(du)達到(dao)了(le)要求，但由(you)于(yu)黏度(du)尚未達到(dao)要求而拋(pao)(pao)不(bu)光，只有在(zai)(zai)經過(guo)一段時(shi)間的電解后(hou)才開始拋(pao)(pao)光良好。特別(bie)是溶液(ye)與(yu)零(ling)件(jian)(jian)(jian)的界面(mian)(mian)濃度(du)和(he)黏度(du)，在(zai)(zai)拋(pao)(pao)光中起著重要作用。這(zhe)(zhe)就是為什么要求零(ling)件(jian)(jian)(jian)在(zai)(zai)進入拋(pao)(pao)光液(ye)前表(biao)面(mian)(mian)水膜(mo)(mo)(mo)要均(jun)勻，否則零(ling)件(jian)(jian)(jian)表(biao)面(mian)(mian)帶水膜(mo)(mo)(mo)的不(bu)均(jun)勻性，破壞了(le)黏膜(mo)(mo)(mo)的正常生成(cheng)，發生局部過(guo)腐蝕現(xian)象。水洗后(hou)的零(ling)件(jian)(jian)(jian)最好甩干后(hou)迅速下槽，這(zhe)(zhe)樣通電拋(pao)(pao)光后(hou)，表(biao)面(mian)(mian)過(guo)腐蝕現(xian)象即可避免。

 電(dian)化學(xue)(xue)拋(pao)光還不(bu)能(neng)完全取代機械拋(pao)光。電(dian)化學(xue)(xue)拋(pao)光只是(shi)對(dui)金屬表面上起(qi)微觀整平作用(yong)。宏觀的(de)整平要(yao)靠機械拋(pao)光。電(dian)化學(xue)(xue)拋(pao)光對(dui)材(cai)料化學(xue)(xue)成(cheng)分的(de)不(bu)均(jun)勻性和(he)(he)顯微偏析特別(bie)敏(min)感，使金屬基體和(he)(he)非金屬夾雜物(wu)之(zhi)間常被劇(ju)烈浸蝕，有時，有不(bu)良的(de)冶金狀態，金屬晶粒尺(chi)寸(cun)結構的(de)不(bu)均(jun)勻性、軋制痕跡(ji)、鹽類或(huo)氧化物(wu)的(de)污染、酸洗(xi)過度(du)以及淬(cui)火過度(du)等均(jun)會對(dui)電(dian)化學(xue)(xue)拋(pao)光產生不(bu)良影響。這些缺陷常常要(yao)靠先期的(de)機械拋(pao)光來彌補(bu)。

電化學拋光與手工機(ji)械拋光相(xiang)比，能(neng)發揮(hui)下列優點(dian)：

 ①. 產品內外色澤一致，清潔光(guang)亮，光(guang)澤持(chi)久，外觀輪廓清晰；

 ②. 螺(luo)紋(wen)中的毛刺在電解過(guo)程中溶解脫落，螺(luo)紋(wen)間(jian)配合松滑，防(fang)止螺(luo)紋(wen)間(jian)咬時的咬死現象；

 ③. 拋光面抗腐(fu)蝕(shi)性能增強(qiang)；

 ④. 與機(ji)械拋光相(xiang)比，生產(chan)效率高，生產(chan)成本低(di)。