QPQ是Quench Polish Quench的縮寫，其原始完整的含意是：工件在液體滲氮（或液體氮碳共滲）并采用氧化鹽浴冷卻后，對表面進行機械拋光或研磨，再經氧化鹽浴表面氧化處理的工藝過程。有的將QPQ處理稱為淬火－拋光－淬火處理，這種理解值得商榷。因為液體滲氮（或液體氮碳共滲）的溫度一般采用530~580℃,低于Fe-N相圖中的共析溫度（約590℃),加熱時不發生α→γy的轉變過程，冷卻時也不發生γ→M的轉變過程。
在(zai)拋(pao)(pao)光后再次經過(guo)氧(yang)化(hua)浴時，也只(zhi)是(shi)拋(pao)(pao)光后的(de)表面氧(yang)化(hua)過(guo)程(cheng)。始(shi)終不發生淬火過(guo)程(cheng)。
從(cong)QPQ處理的(de)(de)工(gong)藝過(guo)程(cheng)可(ke)見，第一程(cheng)序就是(shi)液(ye)體滲氮(dan)（或(huo)液(ye)體氮(dan)碳共滲），只不過(guo)是(shi)采用(yong)的(de)(de)冷卻方(fang)式必須是(shi)氧化(hua)鹽(yan)浴冷卻。第二程(cheng)序是(shi)滲層表面(mian)拋光(guang)（或(huo)研磨），工(gong)件(jian)經(jing)過(guo)鹽(yan)浴處理后的(de)(de)表面(mian)不可(ke)避免地(di)存在粗(cu)糙(cao)、多孔的(de)(de)顯(xian)微(wei)層，經(jing)過(guo)機械拋光(guang)或(huo)研磨后，改善了表面(mian)的(de)(de)光(guang)潔度(du)，這(zhe)時的(de)(de)耐腐蝕性(xing)(xing)能(neng)可(ke)能(neng)略有下降。第三程(cheng)序是(shi)拋光(guang)后的(de)(de)工(gong)件(jian)表面(mian)在氧化(hua)鹽(yan)浴中受到(dao)氧化(hua)，這(zhe)時的(de)(de)耐腐蝕性(xing)(xing)能(neng)顯(xian)著(zhu)提高。
QPQ處理及其他(ta)不同(tong)的表(biao)面(mian)處理狀態在鹽霧試驗時的耐腐蝕效果(guo)見表(biao)7-11。
由(you)此(ci)可認為，QPQ處理所以得到廣泛(fan)應用，是由(you)于其氮化(hua)（或(huo)氨碳共滲）并在氧(yang)化(hua)鹽浴(yu)中冷卻，可獲得高(gao)的(de)表面硬度、耐磨(mo)性(xing)能(neng)、耐疲(pi)勞性(xing)能(neng)和拋光(guang)后再氧(yang)化(hua)獲得的(de)高(gao)耐腐性(xing)能(neng)的(de)優(you)良(liang)效果。
1. QPQ處理工藝
如前所(suo)述(shu)，QPQ處理(li)主要有以下過程。
a. 液體(ti)滲(shen)氮（或液體(ti)氮碳共滲(shen)）
液(ye)體(ti)滲氮(dan)或液(ye)體(ti)氮(dan)碳共滲工藝方(fang)法(fa)、效果及可能出(chu)現的缺陷參見本章液(ye)體(ti)氮(dan)碳共滲的有關內容。
b. 滲后(hou)冷(leng)卻
QPQ處理中(zhong)滲氮或(huo)氮碳共滲工序中(zhong)的(de)冷(leng)卻方式必(bi)須(xu)采用氧化鹽浴冷(leng)卻。
氧(yang)化(hua)鹽(yan)(yan)是(shi)一種強(qiang)堿性(xing)鹽(yan)(yan)，pH值為12~12.5,熔化(hua)后的(de)鹽(yan)(yan)浴具有強(qiang)烈的(de)氧(yang)化(hua)性(xing)。
氧化鹽(yan)的熔(rong)點不大于300℃,使用溫度在350~400℃之間(jian)。工件在氧化鹽(yan)浴中的保持時(shi)間(jian)，依據工件大小(xiao)或(huo)多少(shao)控制(zhi)在15~30min 即可(ke)。
在(zai)氧化(hua)鹽浴中保持后，可依據工(gong)件的情(qing)況，采用空冷(leng)或水冷(leng)。
工件氧化后，在表面形成Fe3O4薄膜。
c. 工件的表(biao)面拋光
液(ye)體滲(shen)氮(dan)或液(ye)體氮(dan)碳共滲(shen)后并經氧化(hua)鹽浴冷(leng)卻的工件，采用機(ji)械方(fang)法對表面(mian)(mian)進行拋光或研磨，將工件表面(mian)(mian)粗(cu)糙度提高至R.0.09~0.15μm即可。
d. 氧(yang)化
經(jing)機(ji)械(xie)拋(pao)光或研磨后的工件放(fang)入氧(yang)化鹽(yan)浴中再氧(yang)化。
氧化鹽(yan)浴與氮化冷卻鹽(yan)浴相同，保持溫度在350~400℃,
保持時(shi)間可(ke)短一些，一般在5~10min.
2. QPQ處理生產(chan)中的相關問題
要進(jin)行QPQ處(chu)理(li)的(de)工件，也應(ying)有預先的(de)熱處(chu)理(li)、滲氮（或氨碳共(gong)診）前的(de)表面清(qing)理(li)、預熱、處(chu)理(li)后的(de)清(qing)洗(xi)、烘(hong)干和(he)浸油程序，這些程序的(de)具體要求可參見本章液體氮碳共(gong)滲的(de)相關(guan)內容。
同樣，不銹鋼PQP處(chu)理(li)工(gong)藝參數及處(chu)理(li)后可獲得的滲(shen)層效果可參見本章液體氮(dan)碳共滲(shen)的相(xiang)關(guan)內容。
